产品概述
Genius恒温金属浴有两种机型: 单槽或双槽设计，可随意从广泛的铝块类型中选择搭配使用。它适合于多种应用，包括限制性内切酶反应，DNA变性，尿素氮测定，凝胶熔化，凝血试验，杂交和热启动热循环反应。微处理器控制器提供方便的温度选择，快速加热和良好的稳定性。此产品温度设定的增量温度范围为0.1℃，温度控制范围适用于从室温+5℃到150℃。另有选配的温度传感器可直接放置在样品中提供精准的温度侦测和控制。定时器可设置1-999分钟或持续运行。 Genius恒温金属浴系列也可以用作小型水浴槽使用。可选配功能控制软件进行PC数据记录。